【題目】下列實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,始終無(wú)明顯現(xiàn)象的是( )
A.SO2通入Ba(NO3)2溶液中
B.O2通入Na2SO3溶液中
C.Cl2通入Na2SiO3溶液中
D.NH3通入Ca(HCO3)2溶液中
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】(5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3 :Si + 3HCl(g) SiHCl3 + H2(g)
③SiHCl3與過(guò)量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅:
SiHCl3(g) + H2(g) Si(s)+ 3HCl(g)
已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng),且在空氣中易自燃。
用SiHCI3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)
(1)裝置B中的試劑是
(2)反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是 ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及 。
(4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑是 。(填寫字母代號(hào))
a.碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】二氧化硫是硫的重要化合物,在生產(chǎn),生活中有廣泛應(yīng)用。二氧化硫有毒,并且是形成酸雨的主要?dú)怏w。無(wú)論是實(shí)驗(yàn)室制備還是工業(yè)生產(chǎn),二氧化硫尾氣吸收或煙氣脫硫都非常重要。完成下列填空:
(1)實(shí)驗(yàn)室可用銅和濃硫酸加熱或硫酸和亞硫酸鈉反應(yīng)制取二氧化硫。
A.裝置a B裝置b
C.裝置c D.裝置d
如果用硫酸和亞硫酸鈉反應(yīng)制取二氧化硫,并希望能控制反應(yīng)速度,上圖中可選用的發(fā)生裝置是 _________(填寫字母)。
(2)若用硫酸和亞硫酸鈉反應(yīng)制取3.36 L(標(biāo)準(zhǔn)狀況)二氧化硫,至少需要稱取亞硫酸鈉____________________g(保留一位小數(shù));如果已有4.0%亞硫酸鈉(質(zhì)量分?jǐn)?shù))被氧化成硫酸鈉,則至少需稱取該亞硫酸鈉________g (保留一位小數(shù))。
(3)實(shí)驗(yàn)室二氧化硫尾氣吸收與工業(yè)煙氣脫硫的化學(xué)原理相通。石灰-石膏法和堿法是常用的煙氣脫硫法。石灰-石膏法的吸收反應(yīng)為SO2+Ca(OH)2=CaSO3↓+H2O。吸收產(chǎn)物亞硫酸鈣由管道輸送至氧化塔氧化,反應(yīng)為2CaSO3+O2+4H2O=2CaSO4·2H2O。其流程如下圖:
堿法的吸收反應(yīng)為SO2+2NaOH=Na2SO3+H2O。堿法的特點(diǎn)是氫氧化鈉堿性強(qiáng),吸收快,效率高。其流程如下圖:
已知:
石灰-石膏法和堿法吸收二氧化硫的化學(xué)原理相同之處是 _____________________。和堿法相比,石灰-石膏法的優(yōu)點(diǎn)是__________________,缺點(diǎn)是__________________。
(4)在石灰-石膏法和堿法的基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)一個(gè)改進(jìn)的,能實(shí)現(xiàn)物料循環(huán)的煙氣脫硫方案(用流程圖表示) _______。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】煤在燃燒時(shí)會(huì)產(chǎn)生SO2,造成環(huán)境污染。下列說(shuō)法正確的有
A. SO2是形成酸雨的主要?dú)怏w
B. 用堿液吸收燃煤廢氣可減少環(huán)境污染
C. 往燃煤中混入生石灰,可減少SO2排放
D. 用水溶解、過(guò)濾除去煤中的單質(zhì)硫以減少SO2排放
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】在下列能源的利用過(guò)程中,不直接產(chǎn)生CO2的有
A. 石油 B. 太陽(yáng)能 C. 氫能 D. 天然氣
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】室溫下,在pH=11的某溶液中,由水電離的c(OH﹣)為( )
①1.0×10﹣7 molL﹣1、1.0×10﹣6 molL﹣1
③1.0×10﹣3 molL﹣1、1.0×10﹣11 molL﹣1 .
A.③
B.④
C.①或③
D.③或④
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】印刷電路板(簡(jiǎn)稱PCB)是電子產(chǎn)品的重要組成部分,在PCB的加工過(guò)程中,常采用堿性蝕刻法,蝕刻后的廢液中存在大量的[Cu(NH3)4]C12,如果直接排放不僅造成資源浪費(fèi),而且污染環(huán)境。下圖是堿性蝕刻制PCB,并利用蝕刻廢液制堿式碳酸銅(Cu2(OH)2CO3)的工藝流程。
(1)堿性蝕刻時(shí)發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_____________________________________。
(2)濾液a的溶質(zhì)主要是__________。(化學(xué)式)
(3)不同的氨銅比和碳銅比條件下溶解CuO得A溶液,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下圖。該反應(yīng)的最佳實(shí)驗(yàn)條件為_______________________________。(氨銅比指n(NH3)∶n(CuO),碳銅比指n(NH4HCO3)∶n(CuO) )
(4)A溶液主要含[Cu(NH3)n]2+,對(duì)溶液中析出的無(wú)水碳酸鹽進(jìn)行分析后,測(cè)得元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)為N:17.5%,Cu:39.7%,則此藍(lán)色晶體的化學(xué)式是____________。
(5)寫出真空蒸氨反應(yīng)的化學(xué)方程式__________________________________________。
(6)蒸氨時(shí),如果選擇在常壓80℃條件下進(jìn)行,即使反應(yīng)24小時(shí),也僅有少量氨蒸出,且不Cu2(OH)2CO3沉淀析出。原因?yàn)?/span>______________________________________。
(7)除流程中標(biāo)出的循環(huán)使用的物質(zhì)外,還可循環(huán)使用的物質(zhì)有__________。
(8)已知某次實(shí)驗(yàn)從0.4L 含Cu元素140g/L的蝕刻廢液獲得堿式碳酸銅82.5g,則Cu元素回收率為_____________(結(jié)果保留至1%)。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】將純鋅片和純銅片按圖示方式插入同濃度的稀硫酸中一段時(shí)間,下列敘述正確的是
A. 裝置甲中銅片表面產(chǎn)生氣泡
B. 裝置甲溶液中 SO42ˉ 向銅片做定向移動(dòng)
C. 裝置乙中負(fù)極的電極反應(yīng)式: Zn-2eˉ == Zn2+
D. 裝置乙導(dǎo)線中有 1mol 電子通過(guò)時(shí)鋅片溶解了 65g
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】如圖是8種有機(jī)化合物的轉(zhuǎn)換關(guān)系:
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)A的最簡(jiǎn)式為; A的核磁共振氫譜有組峰,其峰面積之比為 .
根據(jù)系統(tǒng)命名法,化合物A的名稱是 .
(2)上述框圖中,①是反應(yīng),③是反應(yīng).(填反應(yīng)類型)
(3)寫出由D生成E的化學(xué)方程式: .
(4)C1的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是;F1的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是 .
(5)上述8種化合物中,屬于二烯烴的是 , (填A(yù) B C1 C2 D E F1 F2等字母代號(hào)).
(6)只含有一個(gè)碳碳三鍵的E的同分異構(gòu)體有種.
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