D.太陽(yáng)能電池可用硅材料制作.其應(yīng)用有利于環(huán)保.節(jié)能 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料。鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:          

(1)焦炭在過(guò)程Ⅰ中作______劑。

(2)過(guò)程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是     。

(3)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。

①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是      。

②干燥Cl2時(shí),從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中。冷卻的作用是     。

(4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:

反應(yīng)1:  400℃~756℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(l)   ΔH1 <0 

反應(yīng)2:  756℃~907℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH2 <0 

反應(yīng)3:  907℃~1410℃,SiCl4(g) + 2Zn(g)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH3 <0 

① 對(duì)于上述三個(gè)反應(yīng),下列說(shuō)法合理的是_____。

a.升高溫度會(huì)提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過(guò)程需在無(wú)氧的氣氛中進(jìn)行

c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4

② 實(shí)際制備過(guò)程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是     。

③ 已知Zn(l)=Zn(g)  ΔH = +116 KJ/mol 。若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出_____kJ的熱量。

(5)用硅制作太陽(yáng)能電池時(shí),為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層。腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液。硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6。用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過(guò)程     

 

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下列表述錯(cuò)誤的是

A.太陽(yáng)能電池可采用硅材料制作,其應(yīng)用有利于環(huán)保、節(jié)能

B.提前建成的三峽大壩使用了大量水泥,水泥是新型無(wú)機(jī)非金屬材料

C.用ClO2取代Cl2對(duì)飲用水消毒,效果更好

D.“雨后彩虹”“海市蜃樓”既是一種自然現(xiàn)象又是光學(xué)現(xiàn)象,也與膠體的知識(shí)有關(guān)

 

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硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料。鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:          

(1)焦炭在過(guò)程Ⅰ中作______劑。
(2)過(guò)程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是    。
(3)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。
①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是     
②干燥Cl2時(shí),從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中。冷卻的作用是    。
(4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:
反應(yīng)1: 400℃~756℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(l)   ΔH1 <0 
反應(yīng)2:  756℃~907℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH2 <0 
反應(yīng)3:  907℃~1410℃,SiCl4(g) + 2Zn(g)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH3 <0 
① 對(duì)于上述三個(gè)反應(yīng),下列說(shuō)法合理的是_____。
a.升高溫度會(huì)提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過(guò)程需在無(wú)氧的氣氛中進(jìn)行
c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4
② 實(shí)際制備過(guò)程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是    。
③ 已知Zn(l)=Zn(g)  ΔH =" +116" KJ/mol 。若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出_____kJ的熱量。
(5)用硅制作太陽(yáng)能電池時(shí),為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層。腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液。硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6。用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過(guò)程     

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硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料。鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:          

(1)焦炭在過(guò)程Ⅰ中作______劑。
(2)過(guò)程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是    。
(3)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。
①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是     。
②干燥Cl2時(shí),從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中。冷卻的作用是    。
(4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:
反應(yīng)1: 400℃~756℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(l)   ΔH1 <0 
反應(yīng)2:  756℃~907℃ ,SiCl4(g) + 2Zn(l)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH2 <0 
反應(yīng)3:  907℃~1410℃,SiCl4(g) + 2Zn(g)  Si(s) + 2ZnCl2(g)  ΔH3 <0 
① 對(duì)于上述三個(gè)反應(yīng),下列說(shuō)法合理的是_____。
a.升高溫度會(huì)提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過(guò)程需在無(wú)氧的氣氛中進(jìn)行
c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4
② 實(shí)際制備過(guò)程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是    。
③ 已知Zn(l)=Zn(g)  ΔH =" +116" KJ/mol 。若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出_____kJ的熱量。
(5)用硅制作太陽(yáng)能電池時(shí),為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層。腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液。硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6。用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過(guò)程     。

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下列說(shuō)法正確的是                                                       

A.太陽(yáng)能電池可采用二氧化硅材料制作,其應(yīng)用有利于環(huán)保節(jié)能

B.我國(guó)流通的硬幣材質(zhì)是金屬單質(zhì)w.w.w.k.s.5 u.c.o.m

C.在廣東沿海打撈上來(lái)的明代沉船上存在大量鋁制餐具

D.把氯化物等鹽類撒在雪中,能降低水的熔點(diǎn),從而有利于除雪

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