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如圖是楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)示意圖,其中S1、S2為雙縫,D為光屏,實(shí)驗(yàn)中觀察到屏上O點(diǎn)為中央亮紋的中心,P1為第一級(jí)亮紋的中心,若將雙縫間的距離變小,其他條件不變,則下列說(shuō)法正確的是
A.屏上的干涉條紋的間距將變大 |
B.屏上的O點(diǎn)可能出現(xiàn)暗條紋 |
C.屏上P1位置仍然可能為亮條紋的中心 |
D.屏上P1位置可能為暗條紋的中心 |
如圖是楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)示意圖,其中S1、S2為雙縫,D為光屏,實(shí)驗(yàn)中觀察到屏上O點(diǎn)為中央亮紋的中心,P1為第一級(jí)亮紋的中心,若將雙縫間的距離變小,其他條件不變,則下列說(shuō)法正確的是
A.屏上的干涉條紋的間距將變大
B.屏上的O點(diǎn)可能出現(xiàn)暗條紋
C.屏上P1位置仍然可能為亮條紋的中心
D.屏上P1位置可能為暗條紋的中心
(2011年杭州一模)如圖是楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)示意圖,其中S1、S2為雙縫,D為光屏,實(shí)驗(yàn)中觀察到屏上O點(diǎn)為中央亮紋的中心,P1為第一級(jí)亮紋的中心,若將雙縫間的距離變小,其他條件不變,則( )
A.屏上的干涉條紋的間距將變大
B.屏上的O點(diǎn)可能出現(xiàn)暗條紋
C.屏上P1位置仍然可能為亮條紋的中心
D.屏上P1位置可能為暗條紋的中心
如圖甲為兩種光以相同的入射角從某種介質(zhì)射向真空時(shí)的光路圖.圖乙為楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)示意圖,其中S1、S2為雙縫,D為光屏,實(shí)驗(yàn)中觀察到屏上O點(diǎn)為中央亮紋的中心.下列說(shuō)法正確的是( )
A.由圖甲可知,a光的全反射臨界角小于b光的全反射臨界角
B.通過(guò)圖乙中的雙縫干涉裝置,a光的干涉條紋間距比b光的寬
C.在其它條件不變的情況下,若將D屏向右平移一段距離,則屏上干涉條紋間距將變大
D.由實(shí)驗(yàn)觀察知P1為a光的第一級(jí)亮紋的中心,在其它條件不變的情況下,若將D屏向右平移一段距離,屏上P1位置仍然為a光的亮紋的中心
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