25.工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2 △H = +Q kJ/ mol某溫度.壓強(qiáng)下.將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng).下列敘述中正確的是A.反應(yīng)過程中.若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1 mol.則達(dá)平衡時(shí).吸收熱量為Q kJ 查看更多

 

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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)═Si(s)+4HCl(g)△H=+Q kJ/mol(Q>0)某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述中正確的是( 。

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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)═Si(s)+4HCl(g)△H=+Q kJ/mol(Q>0)某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述中正確的是(  )
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量為Q kJ
C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl濃度為0.12mol/L,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L?min)
D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)═Si(s)+4HCl(g)△H=+Q kJ/mol(Q>0)某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述中正確的是( )
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量為Q kJ
C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl濃度為0.12mol/L,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/
D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)═Si(s)+4HCl(g)△H=+Q kJ/mol(Q>0)某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述中正確的是( )
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量為Q kJ
C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl濃度為0.12mol/L,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/
D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

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工業(yè)上制備高純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)==Si(s)+4HCl(g) △H=+Q kJ/ mol(Q>0) 某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述中正確的是
[     ]
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1 mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量為Q kJ
C.反應(yīng)至4 min時(shí),若HCl濃度為0.12 mol/L,則H2的反應(yīng)速率為0.03 mol/(L·min)
D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí),生成的HCl通入100 mL 1 mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

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