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硅的元素符號(hào)為Si,單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料用化學(xué)方法可制得高純度硅有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式為:①SiO2+2C==Si+2CO↑、赟i+2C12======SiCl4 ③SiCl4+2H2====Si+4HCl其中①、③的反應(yīng)類型屬于 | |
[ ] | |
A. |
復(fù)分解反應(yīng) |
B. |
分解反應(yīng) |
C. |
置換反 |
D. |
化合反應(yīng) |
(1)計(jì)算推斷X的化學(xué)式(不用B的相對(duì)原子質(zhì)量)。
(2)化合物的類型。
硼(元素符號(hào)為B)的氫化物有2類:BnHn+6和BnHn+4。有一種硼的氧化物X含氫質(zhì)量分?jǐn)?shù)為21.74%,標(biāo)況密度為1.232g.L-1。
(1)計(jì)算推斷X的化學(xué)式(不用B的相對(duì)原子質(zhì)量)。
(2)化合物的類型。
(1)計(jì)算推斷X的化學(xué)式(不用B的相對(duì)原子質(zhì)量)。
(2)化合物的類型。
硼(元素符號(hào)為B)的氫化物有2類:BnHn+6和BnHn+4。有一種硼的氧化物X含氫質(zhì)量分?jǐn)?shù)為21.74%,標(biāo)況密度為1.232g·L-1。
(1)計(jì)算推斷X的化學(xué)式(不用B的相對(duì)原子質(zhì)量)。
(2)化合物的類型。
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