【題目】下表為元素周期表的一部分,請參照元素①~⑨在表中的位置,用化學用語回答下列問題:

周期

IA

ⅡA

ⅢA

ⅣA

ⅤA

ⅥA

ⅦA

0

1

2

3

(1)④、⑤、⑧三種元素中,離子半徑由大到小的順序為______(填離子符號)。

(2)②、⑦、⑧的最高價含氧酸的酸性由強到弱的順序是______(填化學式)。

(3)⑥單質(zhì)與⑤的最高價氧化物的水化物反應(yīng)的離子方程式為____________________。

(4)②單質(zhì)與③的最高價氧化物的水化物的濃溶液在加熱的條件下反應(yīng)的化學方程式為__________________________________________

(5)元素⑤與元素④能形成原子個數(shù)比為1:1的化合物Y,Y在常溫下為固態(tài),焰色反應(yīng)為黃色,Y與②的最價氧化物反應(yīng)的化學方程式為___________________________。

(6)⑨的非金屬性比⑧的非金屬性______(填“強”或“弱”)。符合上述事實是依據(jù)有____(選擇a-f序號填空)。

a. ⑧的單質(zhì)的沸點比⑨的單質(zhì)沸點高

b. ⑨的氫化物比⑧的氫化物穩(wěn)定

c. ⑨的最外層電子數(shù)比⑧的多

d. ⑧的最高價氧化物的水化物的酸性比⑨的最高價氧化物的水化物的酸性弱

e. ⑨的單質(zhì)能與⑧的氫化物反應(yīng)生成⑧的單質(zhì)

f. ⑨的氫化物的酸性比⑧的氫化物的酸性強

(7)化合物甲是元素③形成的最簡單氫化物,甲的電子式是_________________。在微電子工業(yè)中,甲的水溶液可作刻蝕劑H2O2的清除劑,所得產(chǎn)物不污染環(huán)境,其化學方程式是______________。

(8)①和③形成的18電子的化合物乙是一種應(yīng)用廣泛的化工原料,寫出乙的化學式________。實驗室中可用次氯酸鈉溶液與氨反應(yīng)制備乙,反應(yīng)的化學方程式為__________________

【答案】S2-O2-Na+H2SO4H2CO3H2SiO32Al+2OH-+2H2O2AlO2-+3H2C+4HNO3()4NO2+CO2+2H2O2Na2O2+2CO22Na2CO3+O2bde3H2O2+2NH3N2↑+6H2O3H2O2+2NH3·H2ON2↑+8H2ON2H4 2NH3+NaClON2H4+NaCl+H2O

【解析】

首先根據(jù)元素在周期表中的位置判斷出元素名稱,然后結(jié)合元素周期律以及有關(guān)物質(zhì)的性質(zhì)解答。

根據(jù)元素①~⑨在周期表中的相對位置可知分別是H、C、N、O、Na、Al、SiS、Cl。則

1)離子的核外電子層數(shù)越多離子半徑越大,核外電子排布相同時離子半徑隨原子序數(shù)的增大而減小,則④、⑤、⑧三種元素中,離子半徑由大到小的順序為S2-O2-Na+。

2)非金屬性越強,最高價含氧酸的酸性越強,非金屬性是SCSi,則②、⑦、⑧的最高價含氧酸的酸性由強到弱的順序是H2SO4H2CO3H2SiO3。

3)⑥單質(zhì)與⑤的最高價氧化物的水化物氫氧化鈉反應(yīng)的離子方程式為2Al+2OH-+2H2O2AlO2-+3H2↑。

4)②單質(zhì)碳與③的最高價氧化物的水化物的濃溶液濃硝酸在加熱的條件下反應(yīng)的化學方程式為C+4HNO3(濃)4NO2↑+CO2↑+2H2O。

5)元素⑤與元素④能形成原子個數(shù)比為1:1的化合物YY是過氧化鈉,Y與②的最高價氧化物二氧化碳反應(yīng)的化學方程式為2Na2O2+2CO22Na2CO3+O2。

6)同周期自左向右非金屬性逐漸增強,則⑨的非金屬性比⑧的非金屬性強。

a. 單質(zhì)的熔沸點高低與非金屬性強弱沒有關(guān)系,a錯誤;

b. 非金屬性越強,氫化物越穩(wěn)定,則⑨的氫化物比⑧的氫化物穩(wěn)定可以說明氯元素非金屬性強于硫元素,b正確;

c. ⑨的最外層電子數(shù)比⑧的多與非金屬性強弱沒有關(guān)系,c錯誤;

d. 非金屬性越強,最高價含氧酸的酸性越強,⑧的最高價氧化物的水化物的酸性比⑨的最高價氧化物的水化物的酸性弱,可以說明氯元素非金屬性強于硫元素,d正確;

e. ⑨的單質(zhì)能與⑧的氫化物反應(yīng)生成⑧的單質(zhì),根據(jù)氧化劑的氧化性強于氧化產(chǎn)物的氧化性可知氯元素非金屬性強于硫元素,e正確;

f. ⑨的氫化物的酸性比⑧的氫化物的酸性強與非金屬性強弱沒有關(guān)系,f錯誤;

答案選bde。

(7)化合物甲是元素③形成的最簡單氫化物,甲是氨氣,電子式是。在微電子工業(yè)中,甲的水溶液可作刻蝕劑H2O2的清除劑,所得產(chǎn)物不污染環(huán)境,說明是氮氣和水,其化學方程式是3H2O2+2NH3N2↑+6H2O3H2O2+2NH3·H2ON2↑+8H2O。

8)①和③形成的18電子的化合物乙是一種應(yīng)用廣泛的化工原料,乙是肼,化學式為N2H4。實驗室中可用次氯酸鈉溶液與氨反應(yīng)制備乙,根據(jù)氧化還原反應(yīng)以及原子守恒可知還有氯化鈉和水生成,則反應(yīng)的化學方程式為2NH3+NaClON2H4+NaCl+H2O。

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