Question

已知：A、B為常見的非金屬單質(zhì)且均為氣體；甲、乙為短周期金屬單質(zhì)，乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化；C、H、J的溶液均呈堿性。各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下（部分生成物未給出，且未注明反應(yīng)條件)：

圖10－3

（1）寫出反應(yīng)②的化學(xué)方程式_______________。

（2）反應(yīng)④中每消耗1 mol G，轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為________。

（3）反應(yīng)⑥的離子方程式是______________。

（4）寫出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式________________。

（5）實驗室中保存I的濃溶液的方法是______________。

（6）SiCl4與過量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅，整個制備純硅的過程中必須嚴格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是_______________；H2還原SiCl4過程中若混入O2，可能引起的后果是________________。

（7）有一種常見金屬丙，常溫時只能溶于稀的I溶液，寫出過量的此金屬溶于稀I溶液的離子方程式___________，向此溶液中加入H溶液，現(xiàn)象為__________。

Answer 1