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科目:高中化學(xué) 來源:2013-2014學(xué)年山東省濰坊高密市高三4月月考理綜化學(xué)試卷(解析版) 題型:填空題
氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
(1)Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為???????????????????????????????????? 。
(2)下列實(shí)驗(yàn)?zāi)鼙容^鎂和鋁的金屬性強(qiáng)弱的是???? ??? ?? (填序號)。
a.測定鎂和鋁的導(dǎo)電性強(qiáng)弱
b.測定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3和MgSO4溶液的pH
c.向0.1 mol/LAlCl3和0.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液
(3)鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。
已知:4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)??? ΔH1 = -3352 kJ/mol
Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)???? ΔH2 = -521 kJ/mol
Al與MnO2反應(yīng)冶煉金屬Mn的熱化學(xué)方程式是?????????????????????? ????? 。
(4)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為??????????????????? ????????? ???????????? 。
(5)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)?? △H<0??
某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H2的平均反應(yīng)速率是???????? mol/(L·min)。
②若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)????? (填“增大”、“減小”或“不變”)。
(6)298K時(shí),Ksp[Ce(OH)4]=1×10—29。Ce(OH)4的溶度積表達(dá)式為Ksp=?????????????? 。
為了使溶液中Ce4+沉淀完全,即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×10-5mol·L-1,需調(diào)節(jié)pH為????? 以上。
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