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硅及其化合物對人類現(xiàn)代文明的發(fā)展具有特殊貢獻。請回答下列有關問題：
(1)硅原子的結構示意圖：________。
(2)下列物品或設備所用的材料屬于硅酸鹽的是________。
①長江三峽水泥大壩�、谑⒐鈱Юw維�、厶沾邵釄�
④普通玻璃�、莨杼柲茈姵�

A．①②⑤ B．③④⑤ C．②③④ D．①③④ 
(3)常溫下，SiCl4為液態(tài)，沸點為57.6 ℃，在空氣中冒白霧。制備高純度硅的中間產物SiCl4中溶有液態(tài)雜質，若要得到高純度SiCl4，應采用的方法是________；用化學方程式及必要文字解釋SiCl4在空氣中冒白霧的原因：
___________________________________________________________。

　(1)　(2)D　(3)干燥條件下蒸餾　SiCl4＋3H2O=H2SiO3＋4HCl，HCl遇水蒸氣產生白霧

解析

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：填空題

二氧化氯泡騰片，有效成分（ClO2）是一種高效、安全的殺菌、消毒劑。
方法一：氯化鈉電解法是一種可靠的工業(yè)生產ClO2氣體的方法。該法工藝原理如圖。其過程是將食鹽水在特定條件下電解得到的氯酸鈉（NaClO3）與鹽酸反應生成ClO2。

（1）工藝中可利用的單質有__________（填化學式），發(fā)生器中生成ClO2的化學方程式為_____________。
（2）此法的缺點主要是______________________________________。
方法二：最近，科學家又研究出了一種新的制備方法，纖維素還原法制ClO2，其原理是：纖維素水解得到的最終產物X與NaClO3反應生成ClO2。
（3）配平方程式： □ （X） +□NaClO3+□H2SO4→□ClO2↑+□CO2↑+□H2O+□______
若反應中產生4.48L（折算成標準狀況下）氣體，電子轉移________ 個。
（4）ClO2和Cl2均能將電鍍廢水中的CN—氧化為無毒的物質，自身被還原為Cl—。處理含CN—相同量的電鍍廢水，所需Cl2的物質的量是ClO2的_______倍。
方法三：實驗室常用氯酸鈉(NaClO3)和亞硫酸鈉(Na2SO3)用硫酸酸化，加熱制備二氧化氯，化學反應方程式為：2NaClO3+Na2SO3＋H2SO42ClO2↑+2Na2SO4＋H2O
（5）反應中的Na2SO3溶液中存在如下平衡：H2OH++OH-和 ________________（用離子方程式表示）.
常溫下，0.1mol/L該溶液中離子濃度由大到小排列__________________（用離子符號表示）
（6）常溫下，已知NaHSO3溶液呈酸性，在Na2SO3溶液中滴加稀鹽酸至中性時，溶質的主要成分有________________。（用化學式表示）

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

硫酸和硝酸是中學階段常見的兩種強酸,請就兩者與金屬銅的反應情況回答下列問題:
(1)在100 mL 18 mol·L-1的濃硫酸中加入過量的銅片,加熱使之充分反應,產生的氣體在標準狀況下的體積可能是　　　　(填寫代號);

A．7.32 L B．6.72 L C．20.16 L D．30.24 L
(2)若使上述反應中剩余的銅片繼續(xù)溶解,可將溶液稀釋并向其中加入硝酸鈉,寫出反應的離子方程式:                                             　。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

白玉的化學式可用CaxMgySipO22(OH)2表示（也可用Ca、Mg、Si、H的氧化物表示）。
（1）取8.l0g白玉粉末灼燒至恒重，固體減少了0.18g，則白玉的摩爾質量為______。
（2）另取4.05g白玉粉末加入l mol/L的鹽酸l00mL中充分溶解，最終得不溶氧化物2. 40g.過濾，將濾液和洗滌液合并后往其中加入足量的鐵屑，得到氣體336mL(標準狀況下).則
①p=_________；
②白玉的化學式（用氧化物的形式）表示為________。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

在NO2、HBr、SO2和NH3四種氣體中，有顏色的氣體是             ；在相同條件下，密度最小的氣體是           ；能使?jié)櫇竦募t色石蕊試紙變藍的氣體是         ；兩氣體相遇冒白煙，這兩種氣體是                。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

硝酸銨是含氮量較高的化肥，生產流程如下（產物水均已略去）：

（1）反應④的化學方程式為3NO2＋H2O = 2HNO3＋NO，該反應的氧化劑為__________，還原劑為__________。
（2）補充并配平反應②的化學方程式：____NH3  ＋___O2____NO+ ________
（3）化學反應_______(填序號)是非氧化還原反應，離子方程式為_________________
（4）有人設計了一個反應來制備硝酸NO2+NH3 — HNO3+H2O（未配平），你認為該反應     （填“能”或“不能”）發(fā)生，理由是______________________。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開發(fā)由來已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應用�；卮鹣铝袉栴}：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產普通玻璃的主要原料有       。
（2）高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：

①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生產碳化硅，則在電弧爐內可能發(fā)生的反應的化學方程式為              。
②在流化床反應的產物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式                     。
（3）有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和       ;SiHCl3極易水解，其完全水解的產物為       。

物質
Si
SiCl4
SiHCl3
SiH2Cl2
SiH3Cl
HCl
SiH4
沸點/℃
2355
57．6
31．8
8．2
-30．4
-84．9
-111．9
 
（4）還原爐中發(fā)生的化學反應為：                                。
（5）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料，這些原料是       。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

請回答下列問題:
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:

①寫出由純制備高純硅的化學方程式: ____________________________________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。遇水劇烈反應生成、HCl和另一種物質,配平后的化學反應方程式為___________________________;還原過程中若混入可能引起的后果是____________________________________。
（2）下列有關硅材料的說法正確的是_________ (填字母)。

A．碳化硅化學性質穩(wěn)定,可用于生產耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
E．鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋                                                                                        。

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科目：高中化學 來源： 題型：填空題

金剛石SiC具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕特性，應用廣泛.
(1)碳與同周期元素Q的單質化合僅能生成兩種常見氣態(tài)化合物，其中一種化合物H為非極性分子，碳元素在周期表中的位置是，Q是，R的電子式為.
(2)一定條件下，Na還原CCl4可制備金剛石，反應結束冷卻至室溫后，回收CCl4的實驗操作名稱為，除去粗產品中少量鈉的試劑為.
(3)碳還原制SiC,其粗產品中雜質為Si和SiO2.先將20.0g粗產品加入到過量的NaOH溶液中充分反應，收集到0.1mol氫氣，過濾得SiC固體11.4g，濾液稀釋到1L，生成氫氣的離子方程式為，硅酸鈉的物質的量濃度為
(4)下列敘述正確的有(填序號)，ks5u
①Na還原CCl4的反應、Cl2與H2O的反應均是置換反應②水晶、干冰熔化時克服粒子間作用力的類型相同③Na2SiO3溶液與SO3的反應可用于推斷Si與S的非金屬性強弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒，生成的氧化物中陰陽離子數(shù)目比均為1:2

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