碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

(1)Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ;Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為

                                                              。

(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng),但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應(yīng)方程式為                                                    。

(3)工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅,其反應(yīng)如下:

3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  

某溫度和壓強(qiáng)條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進(jìn)行上述反應(yīng),5min達(dá)到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。

①H2的平均反應(yīng)速率是         mol/(L·min)。

②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1。

③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        。

④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         (填“增大”、“減”或“不變”)。

⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:

SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol1(Q>0)

某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(   )

A.反應(yīng)過(guò)程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ

C.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L1的NaOH恰好反應(yīng)

D.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

 

【答案】

(1)                      

2Al +2OH-+2H2O = 2AlO2 + 3H2↑                 

(2)Si3N4 +16HF = 3SiF4 + 4NH4F                 

(3)①0.024  ②0.06  ③40%  ④不變 ⑤  C                                  

【解析】

試題分析:(1)Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為,Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為2Al +2OH-+2H2O = 2AlO2 + 3H2↑;

(2)氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽,這種銨鹽是NH4F,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為Si3N4 +16HF = 3SiF4 + 4NH4F ;

(3)①Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g,所以的物質(zhì)的量n=5.60/80=0.04mol,根據(jù)

3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g),可知

V(H2)="6" V(Si3N4)=6×(0.04/2/5)="0.024" mol/(L·min);②反應(yīng)的N2的物質(zhì)的量n=0.04×2=0.08mol,所以平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度=(0.2-0.08)/2="0.06" mol·L-1

③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是=0.04×3/0.3×100%=40%;④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,因?yàn)檫@個(gè)投料比為化學(xué)計(jì)量數(shù)之比,所以SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)該不變;⑤由SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol1(Q>0)可以知道,壓強(qiáng)增大,反應(yīng)向左進(jìn)行,所以減小壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率,故A錯(cuò)誤;若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,達(dá)到平衡時(shí),由于該反應(yīng)為可逆反應(yīng),所以吸收熱量小于QkJ,故B錯(cuò)誤;C正確,反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L1,則H2的反應(yīng)速率為0.015mol/(L·min),故D也錯(cuò)誤,本題答案為C。

考點(diǎn):原子結(jié)構(gòu)示意圖、離子方程式、化學(xué)平衡

點(diǎn)評(píng):本題綜合考查了原子結(jié)構(gòu)示意圖、離子方程式、化學(xué)平衡的綜合知識(shí),是高考考查的重點(diǎn),該題比較全面,是一道不錯(cuò)的題目。

 

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A、①②③④⑤⑥B、①④③②⑥⑤C、③④①②⑥⑤D、③④①②⑤⑥

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①H2的平均反應(yīng)速率是         mol/(L·min)。
②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1。
③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        。
④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴(kuò)大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         (填“增大”、“減”或“不變”)。
⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol-1(Q>0)
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A.反應(yīng)過(guò)程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ
C.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L-1的NaOH恰好反應(yīng)
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A.①③②    B.②③①   C.③①②    D.②①③

 

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