【題目】在一個不導熱的密閉反應器中,只發(fā)生兩個反應:A(g)+B(g)2C(g) △H < 0
X(g)+3Y(g)2Z(g) △H > 0,進行相關操作且達到平衡,下列敘述正確的是
A. 等壓時,通入惰性氣體,C的物質的量增大
B. 等壓時,通入X氣體,反應器中溫度不變
C. 等容時,通入惰性氣體,各反應速率不變
D. 等容時,通入X氣體,Y的物質的量濃度增大
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【題目】在無色溶液中,下列離子能大量共存的是
A.Na+、NH4+ 、NO3-、MnO4-B.K +、SO42-、OH-、AlO2-
C.K +、Fe3+ 、Cl-、Br-D.Ba2+ 、Na+ 、OH-、CO32-
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【題目】已知在稀溶液中,酸跟堿發(fā)生中和反應生成1 mol水時的反應熱叫做中和熱,F(xiàn)利用如圖裝置進行中和熱的測定,請回答下列問題:
(1)圖示裝置有兩處重要組成部分未畫出,它們是____________ 、_______________。
(2)燒杯間填滿碎泡沫塑料的作用是 ________________。
(3)若操作時分幾次注入反應液,求得的反應熱數(shù)值_____(填“偏大”“偏小”或“無影響”)。
(4)做一次完整的中和熱測定實驗,溫度計需使用__________次。
(5)量取0.5 mol/L的鹽酸和0.55 mol/L的NaOH溶液各50 mL進行實驗,測得鹽酸和NaOH溶液起始平均溫度為t1℃,混合反應后最高溫度為t2℃,設溶液密度均為1 g/mL,生成溶液的比熱容c= 4.18 J/(g℃)。請列式計算中和熱:△H= ______________kJ/mol(不用化簡)。
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【題目】關于晶體的下列說法正確的是( )
A. 在晶體中只要有陰離子就一定有陽離子
B. 在晶體中只要有陽離子就一定有陰離子
C. 原子晶體的熔點一定比金屬晶體的高
D. 分子晶體的熔點一定比金屬晶體的低
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【題目】Ⅰ.某溫度(t℃)時,水的Kw=10-13,則該溫度(填 “大于”“小于”或“等于”)_________ 25℃,理由是_________,將此溫度下pH =11的NaOH溶液aL與pH=1的H2SO4溶液bL混合,
(1)若所得混合液為中性,則a∶b_________;
(2)若所得混合液的pH=2,則a∶b_________。
Ⅱ.25℃時,0.1mol·L-1的某一元酸HA在水中有0.1%發(fā)生電離,下列說法不正確的是(_____)
A.該溶液pH=4 B.由HA電離出的c(H+)約為水電離出的c(H+)的106倍
C.此酸的電離平衡常數(shù)約為1×10-7 D.升高溫度,溶液的pH增大
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【題目】在一定溫度下,將氣體X和氣體Y各0.16mol充入10L恒容密閉容器中,發(fā)生反應X(g)+Y(g)2Z(g)△H<0,一段時間后達到平衡,反應過程中測定的數(shù)據(jù)如表:下列說法正確的是( )
t/min | 2 | 4 | 7 | 9 |
n(Y)/mol | 0.12 | 0.11 | 0.10 | 0.10 |
A. 該溫度下此反應的平衡常數(shù)K=1.44
B. 其他條件不變,降低溫度,反應達到新平衡前ν(逆)>ν(正)
C. 其他條件不變,再充入0.2molZ,平衡時X的體積分數(shù)增大
D. 0~2min的平均速率ν(Z)=2.0×10﹣3molL﹣1min﹣1
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【題目】對于一個反應可以從多個角度認識。下列關于鹽酸與NaOH溶液反應的說法不正確的是
A.屬于復分解反應B.屬于離子反應
C.屬于中和反應D.屬于氧化還原反應
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【題目】將 4 mol A 氣體和 2 mol B 氣體在 2 L 的容器中混合并在一定條件下發(fā)生如下反應:2A(氣)+B(氣)=2C(氣),若經(jīng) 2 s(秒)后測得 C 的濃度為 0.6 mol·L-1 ,現(xiàn)有下列幾種說法:
① 用物質 A 表示的反應的平均速率為 0.3 mol·L-1·s-1
② 用物質 B 表示的反應的平均速率為 0.6 mol·L-1·s-1
③ 2 s 時物質 A 的轉化率為70%
④ 2 s 時物質 B 的濃度為 0.7 mol·L-1其中正確的是( )
A. ①③ B. ①④ C. ②③ D. ③④
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【題目】工業(yè)上用蝕刻液浸泡銅板可制備印刷電路板,產(chǎn)生的蝕刻廢液需要回收利用。
(1)應用傳統(tǒng)蝕刻液(HCl-FeCl3)
①蝕刻銅板主要反應的離子方程式為________。
②該蝕刻液中加入一定量鹽酸的目的為________,同時提高蝕刻速率。
③FeCl3型酸性廢液處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑,可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有:Fe+2Fe3+ 3Fe2+、Fe+Cu2+ Fe2++Cu,還有________、________。(用離子方程式表示)。
(2)應用酸性蝕刻液(HCl-H2O2),產(chǎn)生的蝕刻廢液處理方法如下:
①蝕刻銅板主要反應的離子方程式為________。
②回收微米級Cu2O過程中,加入的試劑A是______(填字母)。
a.Fe粉 b.葡萄糖 c. NaCl固體 d.酸性KMnO4溶液
③回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度,當溫度高于80℃時,產(chǎn)品顏色發(fā)暗,其原因可能是________。
(3)應用堿性蝕刻液(NH3H2O–NH4Cl) 蝕刻銅板,會有Cu(NH3)4Cl2和水生成。蝕刻銅板主要反應的化學方程式為________。
(4)與常規(guī)方法不同,有研究者用HCl-CuCl2做蝕刻液。蝕銅結束,會產(chǎn)生大量含Cu+廢液,采用如圖所示方法,可達到蝕刻液再生、回收金屬銅的目的。此法采用摻硼的人造鉆石BDD電極,可直接從水中形成一種具有強氧化性的氫氧自由基(HO),進一步反應實現(xiàn)蝕刻液再生,結合化學用語解釋CuCl2蝕刻液再生的原理________。
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