【題目】加熱條件下,硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)生成SiHCl3是粗硅提純的重要步驟.某小組設(shè)計(jì)如圖所示裝置完成上述轉(zhuǎn)化(夾持裝置略去).

已知:SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化,CCl4的沸點(diǎn)為76.8°C.
請(qǐng)回答:
(1)儀器a的名稱為;導(dǎo)管g的作用為
(2)裝置A中,濃硫酸體現(xiàn)的性質(zhì)為;實(shí)驗(yàn)時(shí),需先打開(kāi)分液漏斗活塞,一段時(shí)間后,在點(diǎn)燃C處酒精燈,理由是;
(3)裝置C中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(4)裝置D中所得的液態(tài)混合物的分離方法為 . (填操作名稱)
(5)反應(yīng)后的氣體通過(guò)裝置F中的NaOH溶液后,對(duì)逸出氣體的處理方法為;
(6)SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物和一種無(wú)氧酸,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為

【答案】
(1)蒸餾燒瓶;平衡壓強(qiáng),使?jié)饬蛩崛菀椎渭樱ɑ蚱渌侠泶鸢福?/span>
(2)吸水性;排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化
(3)Si+3HCl SiHCl3+H2
(4)蒸餾
(5)點(diǎn)燃(或氣囊收集)
(6)2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl
【解析】解:(1)儀器a是具有支管的燒瓶,為蒸餾燒瓶,裝置A中的b導(dǎo)管是為了平衡壓強(qiáng)的作用,使分液漏斗中的液體濃硫酸順利流下,故答案為:蒸餾燒瓶;平衡壓強(qiáng),使?jié)饬蛩崛菀椎渭樱ɑ蚱渌侠泶鸢福唬?)裝置A,蒸餾燒瓶中盛放濃鹽酸,分液漏斗中盛放濃硫酸,利用濃硫酸的吸水性以及氯化氫的揮發(fā)性,打開(kāi)分液漏斗活塞,從A中排出氯化氫氣體,SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化,實(shí)驗(yàn)時(shí),需先打開(kāi)分液漏斗活塞,一段時(shí)間后,在點(diǎn)燃C處酒精燈,排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化,
故答案為:吸水性; 排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化;(3)根據(jù)題干信息,硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)生成SiHCl3可知,硅和氯化氫反應(yīng)的方程式為:Si+3HCl SiHCl3+H2 ,
故答案為:Si+3HCl SiHCl3+H2;(4)SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,制出的SiHCl3可能不純,提純SiHCl3的方法是利用其沸點(diǎn)較低,通過(guò)蒸餾的方法分離得到純凈的SiHCl3 ,
故答案為:蒸餾;(5)硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)Si+3HCl SiHCl3+H2 , 粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2;裝置F中的氫氧化鈉是為了吸收過(guò)量的氯化氫,通過(guò)裝置F后,剩余氣體為氫氣,氫氣燃燒生成水,可通過(guò)點(diǎn)燃或氣囊收集處理,
故答案為:點(diǎn)燃(或氣囊收集);(6)硅的穩(wěn)定氧化物為二氧化硅,SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物為二氧化硅,根據(jù)原子守恒可知一種無(wú)氧酸為氯化氫,所以該反應(yīng)的化學(xué)方程式為:2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl,
故答案為:2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl.
粗硅提純:裝置A,蒸餾燒瓶中盛放濃鹽酸,分液漏斗中盛放濃硫酸,利用濃硫酸的吸水性以及氯化氫的揮發(fā)性,打開(kāi)分液漏斗活塞,從A中排出氯化氫氣體,排盡裝置中的空氣,裝置B,對(duì)氯化氫氣體進(jìn)行干燥,裝置C,粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2;裝置F中的氫氧化鈉是為了吸收過(guò)量的氯化氫,裝置E防止F中的水蒸氣進(jìn)入裝置D與SiHCl3發(fā)生反應(yīng),裝置D收集SiHCl3 , 通過(guò)裝置F后,剩余氣體為氫氣,可通過(guò)點(diǎn)燃或氣囊收集處理. (1)根據(jù)儀器a的特征以及常見(jiàn)儀器的名稱解答,裝置A中的b導(dǎo)管是為了平衡壓強(qiáng)的作用;(2)濃硫酸具有吸水性,氯化氫易揮發(fā),SiHCl3能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化;(3)硅和氯化氫在加熱的條件下反應(yīng)生成和三氯硅烷和氫氣;(4)得到的產(chǎn)物沸點(diǎn)不同,可以控制沸點(diǎn)通過(guò)蒸餾的方法得到SiHCl3;(5)反應(yīng)后的氣體為氫氣,氫氣具有可可燃性,可通過(guò)燃燒或氣囊收集的方法處理尾氣;(6)SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物為二氧化硅,一種無(wú)氧酸根據(jù)原子守恒可知為氯化氫.

練習(xí)冊(cè)系列答案
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A.2:1
B.1:1
C.1:2
D.3:2

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【題目】下列裝置(加持裝置略去)能達(dá)到試驗(yàn)?zāi)康氖牵?/span>

選項(xiàng)

A

B

C

D

裝置

實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/span>

比較非金屬性:N>C>Si

制備并收集乙酸乙酯

除去Ca(OH)2中的NH4Cl

驗(yàn)證HCl的溶解性


A.A
B.B
C.C
D.D

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【題目】亞硝酸(HNO3)是一元弱酸,亞硝酸及其鹽在實(shí)驗(yàn)和工業(yè)生產(chǎn)中有重要應(yīng)用.請(qǐng)回答:
(1)HNO3的電離常數(shù)Ka的表達(dá)式為
(2)酸性條件下,K2Cr2O7能被NaNO2還原為Cr3+ , 該反應(yīng)的離子方程式為
(3)25℃時(shí),用0.100molL﹣1NaOH溶液滴定20.0mL某濃度的HNO3溶液,溶液的pH與NaOH溶液體積(V)的關(guān)系如圖所示,

已知:M點(diǎn)對(duì)應(yīng)溶液中,c(OH)=c(H+)+c(HNO2).則:
①原溶液中c(HNO2)為(保留三位有效數(shù)字).
②下列關(guān)于N點(diǎn)對(duì)應(yīng)溶液的說(shuō)法正確的是(填選項(xiàng)字母).
A.溶液只有NaNO2
B.水電離出來(lái)的c(H+)=1×10﹣7 molL﹣1
C.溶液中離子濃度:c(Na+)=c(NO3
D.溶液中:c(Na+)<c(OH

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【題目】構(gòu)造原理揭示的電子排布能級(jí)順序,實(shí)質(zhì)是各能級(jí)能量高低。若以E(nl)表示某能級(jí)的能量,以下各式中正確的是( )

A. E(5s)>E(4f)>E(4s)>E(3d)

B. E(3d)>E(4s)>E(3p)>E(3s)

C. E(4s)<E(3s)<E(2s)<E(1s)

D. E(5s)>E(4s)>E(4f)>E(3d)

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已知:①幾種物質(zhì)的溶解度(g/100gH2O)如表所示.

FeSO47H2O

(NH42SO4

FeSO4(NH42SO46H2O

20℃

48

75

37

60℃

101

88

38

②溶液pH>4時(shí),F(xiàn)e2+容易被氧化.
請(qǐng)回答:
(1)過(guò)濾所用的主要玻璃儀器為
(2)溶液1中的主要溶質(zhì)為(填化學(xué)式).
(3)進(jìn)行操作2時(shí),從溶液中析出晶體后,需趁熱過(guò)濾,原因?yàn)?/span>
(4)FeSO4(NH42SO46H2O用適量稀硫酸洗滌,而不是用水洗滌的原因?yàn)?/span>
(5)稱取2.50gCuSO45H2O樣品,灼燒過(guò)程中樣品質(zhì)量隨溫度(T)變化的曲線如圖2所示.

①120℃所的固體,繼續(xù)加熱至258℃時(shí)失水,所發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
②900℃時(shí)剩余固體只有一種銅的氧化物,其化學(xué)式為

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A. 利用太陽(yáng)能使海水蒸餾淡化

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C. 利用電滲析法可以獲取淡化的飲用水

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A.甲為CO2 , X為NaOH溶液
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A.放電時(shí),電解質(zhì)溶液中K+移向負(fù)極
B.放電時(shí),電解質(zhì)溶液的pH 不變
C.充電時(shí),陰極的反應(yīng)為:Zn(OH)42+2e=Zn+4OH
D.充電時(shí),當(dāng)有4.48L 氧氣(標(biāo)準(zhǔn)狀況下)釋放出來(lái)時(shí),則析出固體Zn為13g

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