【題目】能正確表示下列反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式為
A.NH4HCO3溶于少量的濃KOH溶液中:++2OH-=+ NH3↑+2H2O
B.向明礬溶液中滴加Ba(OH)2溶液,恰好使沉淀完全:2Al3++3+3Ba2++6OH -=2 Al(OH)3↓+3BaSO4↓
C.向FeBr2溶液中通入足量氯氣:2Fe2++4Br-+3Cl2=2 Fe3++2Br2+6 Cl-
D.醋酸除去水垢:2H++CaCO3=Ca2++ CO2↑+ H2O
【答案】C
【解析】
A.由于和OH-結(jié)合的能力比和OH-的強(qiáng),故NH4HCO3溶于少量的濃KOH溶液中的離子方程式為+OH-=+H2O, A不符合題意;
B.根據(jù)明礬的化學(xué)式為KAl(SO4)212H2O,當(dāng)向明礬溶液中滴加Ba(OH)2溶液,恰好使沉淀完全,Al3+和OH –的物質(zhì)的量之比為1:4,正確的離子方程式為Al3++2+2Ba2++4OH -= +2BaSO4↓+2H2O,B不符合題意;
C.向FeBr2溶液中通入足量氯氣即將Fe2+和Br-完全氧化,離子方程式為2Fe2++4Br-+3Cl2=2 Fe3++2Br2+6 Cl-,C符合題意;
D.醋酸是弱酸,在書寫離子方程式時(shí)不能改寫為離子,醋酸除去水垢的離子方程式為2CH3COOH+CaCO3=2CH3COO-+Ca2++ CO2↑+ H2O,D不符合題意;
故答案為:C。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】前四周期元素X、Y、Z、M、N、O、P,原子序數(shù)逐漸增大,其中X、Y、Z、M、N為短周期元素,而X、Y、Z、M處于同周期的P區(qū),且未成對(duì)電子數(shù)之比為1:2:3:2;N與Z同族。O、P分別位于周期表第2、4列,P的單質(zhì)被稱為“未來(lái)金屬”,具有質(zhì)量輕、強(qiáng)度大、耐腐蝕性好的優(yōu)點(diǎn)。
(1)Y、Z、M三種元素的電負(fù)性由大到小的順序:________(用元素符號(hào)表示)。
(2)M的常見氫化物的氫鍵的鍵能小于HF的氫鍵的鍵能,但Z的常見氫化物常溫下為液態(tài)而HF常溫下為氣態(tài)的原因是:__________。
(3)XN一種耐磨涂料,可用于金屬表面保護(hù)層,該化合物可由X的三溴化物和N的三溴化物于高溫下在氫氣的氛圍中合成。
①寫出合成XN的化學(xué)方程式:_________。(各物質(zhì)用化學(xué)式表示)
②XN的晶體的晶胞如圖所示:
其中實(shí)心球?yàn)?/span>N,在一個(gè)晶胞中N原子空間堆積方式為______,N原子的配位數(shù)為______;該結(jié)構(gòu)中有一個(gè)配位鍵,提供空軌道的原子是________(寫元素符號(hào))。
(4)O和硫形成的某種晶體的晶胞如圖a所示:該晶胞原子的坐標(biāo)參數(shù)A為(0,0,0);B為(1,0,0)。則C原子的坐標(biāo)參數(shù)為_______。
(5)圖b為P的一種面心立方晶胞結(jié)構(gòu),若晶胞的邊長(zhǎng)為anm,則P的密度為_____g·cm-3(用含a和NA的代數(shù)式表示)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】常溫下,用0.10molL-1NaOH溶液分別滴定20.00mL0.10molL-1的HX和HY溶液,滴定曲線如圖所示。下列說(shuō)法正確的是( )
A.pH=7時(shí),滴定HX消耗NaOH溶液體積等于20.00mL
B.將上述HX、HY溶液各加水稀釋10倍,稀釋后溶液的pH:pH(HY)>pH(HX)
C.當(dāng)NaOH溶液體積為20.00mL時(shí),HX溶液中離子濃度:c(Na+)>c(X-)>c(H+)>c(OH-)
D.將上述HX、HY溶液等體積混合后,用NaOH溶液滴定至HX恰好完全反應(yīng)時(shí),c(H+)+c(HX)=c(OH-)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列有關(guān)圖像,其中說(shuō)法正確的是
A. 由圖Ⅰ知,反應(yīng)在 T1、T3 處達(dá)到平衡
B. 由圖Ⅰ知,該反應(yīng)的△H<0
C. 由圖Ⅱ知,t3時(shí)采取降低反應(yīng)溫度的措施
D. 由圖Ⅱ知,反應(yīng)在 t6時(shí),NH3 體積分?jǐn)?shù)最大
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】常溫下,下列說(shuō)法不正確的是
A.等體積、等物質(zhì)的量濃度的NaCl(aq) 離子總數(shù)大于NaClO(aq)中離子總數(shù)
B.pH=3的硫酸溶液中水的電離程度等于pH=11的氨水溶液中水的電離程度
C.0.1 mol/L的NaHA溶液pH=5,則溶液:c(HA-)>c(H+)>c(A2-)>c(H2A)
D.向NH4HSO4溶液中滴加NaOH溶液至中性,所得混合液:c(Na+)>c(NH4+)>c(SO42-)>c(OH-)=c(H+)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】NA為阿伏加德羅常數(shù)的值。下列說(shuō)法正確的是
A.0.1 L 3.0 mol·L-1的NH4NO3溶液中含有的的數(shù)目為0.3NA
B.1.0 L 0.1 mol·L-1的NaHSO4溶液中,陽(yáng)離子的數(shù)目之和為0.2NA
C.25 ℃時(shí),pH=13的1.0 L Ba(OH)2溶液中含有的OH-數(shù)目為0.1NA
D.1 L 0.1 mol·L-1的Na2CO3溶液中所含氧原子數(shù)目為0.3NA
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列離子方程式正確的是( )
A. 氫氧化鋇溶液與稀H2SO4反應(yīng):Ba2++SO42-= BaSO4↓
B. 碳酸鈣與鹽酸反應(yīng):CO32-+2H+=H2O+CO2↑
C. SiO2和氫氧化鈉溶液的反應(yīng):SiO2+2OH-=SiO32-+H2O
D. 用FeCl3溶液腐蝕銅箔制造印刷電路板:Fe3++Cu=Fe2++Cu2+
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】ClO2 是一種高效安全的殺菌消毒劑。用氯化鈉電解法生成ClO2的工藝原理示意圖如下圖, 發(fā)生器內(nèi)電解生成ClO2。下列說(shuō)法正確的是
A. a氣體是氯氣,b氣體是氫氣
B. 氯化鈉電解槽內(nèi)每生成2 mol a氣體,轉(zhuǎn)移2mol e-
C. ClO2發(fā)生器中陰極的電極反應(yīng)式為:ClO3- + 2H+ + e-ClO2↑ + H2O
D. 為使a、b氣體恰好完全反應(yīng),理論上每生產(chǎn)1molClO2需要補(bǔ)充44.8Lb氣體(標(biāo)況下)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某酸的酸式鹽NaHY在水溶液中,HY-的電離程度小于HY-的水解程度。有關(guān)的敘述中,正確的是
A. H2Y電離方程式為:H2Y+H2OHY-+H3O+
B. 常溫下,該酸式鹽的水溶液中溶液中,各離子濃度大小關(guān)系為:c(Na+)>c(Y2-)>c(HY-)>c(OH-)>c(H+)
C. 常溫下,酸式鹽NaHY 的水溶液呈酸性
D. HY-的水解方程式為:HY-+ H2OH3O++Y2-
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