【題目】能正確表示下列反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式為

A.NH4HCO3溶于少量的濃KOH溶液中:++2OH-=+ NH3↑+2H2O

B.向明礬溶液中滴加Ba(OH)2溶液,恰好使沉淀完全:2Al3++3+3Ba2++6OH -=2 Al(OH)3↓+3BaSO4

C.FeBr2溶液中通入足量氯氣:2Fe2++4Br-+3Cl2=2 Fe3++2Br2+6 Cl-

D.醋酸除去水垢:2H++CaCO3=Ca2++ CO2↑+ H2O

【答案】C

【解析】

A.由于OH-結(jié)合的能力比OH-的強(qiáng),故NH4HCO3溶于少量的濃KOH溶液中的離子方程式為+OH-=+H2O, A不符合題意;

B.根據(jù)明礬的化學(xué)式為KAl(SO4)212H2O,當(dāng)向明礬溶液中滴加Ba(OH)2溶液,恰好使沉淀完全,Al3+OH 的物質(zhì)的量之比為14,正確的離子方程式為Al3++2+2Ba2++4OH -= +2BaSO4↓+2H2OB不符合題意;

C.向FeBr2溶液中通入足量氯氣即將Fe2+Br-完全氧化,離子方程式為2Fe2++4Br-+3Cl2=2 Fe3++2Br2+6 Cl-,C符合題意;

D.醋酸是弱酸,在書寫離子方程式時(shí)不能改寫為離子,醋酸除去水垢的離子方程式為2CH3COOH+CaCO3=2CH3COO-+Ca2++ CO2↑+ H2O,D不符合題意;

故答案為:C。

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】前四周期元素X、YZ、M、N、O、P,原子序數(shù)逐漸增大,其中X、Y、Z、MN為短周期元素,而XY、ZM處于同周期的P區(qū),且未成對(duì)電子數(shù)之比為1:2:3:2;NZ同族。O、P分別位于周期表第24列,P的單質(zhì)被稱為未來(lái)金屬,具有質(zhì)量輕、強(qiáng)度大、耐腐蝕性好的優(yōu)點(diǎn)。

1Y、Z、M三種元素的電負(fù)性由大到小的順序:________(用元素符號(hào)表示)。

2M的常見氫化物的氫鍵的鍵能小于HF的氫鍵的鍵能,但Z的常見氫化物常溫下為液態(tài)而HF常溫下為氣態(tài)的原因是:__________。

3XN一種耐磨涂料,可用于金屬表面保護(hù)層,該化合物可由X的三溴化物和N的三溴化物于高溫下在氫氣的氛圍中合成。

①寫出合成XN的化學(xué)方程式:_________。(各物質(zhì)用化學(xué)式表示)

XN的晶體的晶胞如圖所示:

其中實(shí)心球?yàn)?/span>N,在一個(gè)晶胞中N原子空間堆積方式為______,N原子的配位數(shù)為______;該結(jié)構(gòu)中有一個(gè)配位鍵,提供空軌道的原子是________(寫元素符號(hào))。

4O和硫形成的某種晶體的晶胞如圖a所示:該晶胞原子的坐標(biāo)參數(shù)A為(00,0);B為(1,00)。則C原子的坐標(biāo)參數(shù)為_______

5)圖bP的一種面心立方晶胞結(jié)構(gòu),若晶胞的邊長(zhǎng)為anm,則P的密度為_____g·cm-3(用含aNA的代數(shù)式表示)

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】常溫下,用0.10molL-1NaOH溶液分別滴定20.00mL0.10molL-1HXHY溶液,滴定曲線如圖所示。下列說(shuō)法正確的是(

A.pH=7時(shí),滴定HX消耗NaOH溶液體積等于20.00mL

B.將上述HX、HY溶液各加水稀釋10倍,稀釋后溶液的pHpH(HY)>pH(HX)

C.當(dāng)NaOH溶液體積為20.00mL時(shí),HX溶液中離子濃度:c(Na+)>c(X-)>c(H+)>c(OH-)

D.將上述HXHY溶液等體積混合后,用NaOH溶液滴定至HX恰好完全反應(yīng)時(shí),c(H+)+c(HX)=c(OH-)

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】下列有關(guān)圖像,其中說(shuō)法正確的是

A. 由圖Ⅰ知,反應(yīng)在 T1、T3 處達(dá)到平衡

B. 由圖Ⅰ知,該反應(yīng)的△H<0

C. 由圖Ⅱ知,t3時(shí)采取降低反應(yīng)溫度的措施

D. 由圖Ⅱ知,反應(yīng)在 t6時(shí),NH3 體積分?jǐn)?shù)最大

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】常溫下,下列說(shuō)法不正確的是

A.等體積、等物質(zhì)的量濃度的NaCl(aq) 離子總數(shù)大于NaClO(aq)中離子總數(shù)

B.pH=3的硫酸溶液中水的電離程度等于pH=11的氨水溶液中水的電離程度

C.0.1 mol/LNaHA溶液pH5,則溶液:c(HA)c(H)c(A2)c(H2A)

D.NH4HSO4溶液中滴加NaOH溶液至中性,所得混合液:c(Na)c(NH4)c(SO42)c(OH)c(H)

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】NA為阿伏加德羅常數(shù)的值。下列說(shuō)法正確的是

A.0.1 L 3.0 mol·L-1NH4NO3溶液中含有的的數(shù)目為0.3NA

B.1.0 L 0.1 mol·L-1NaHSO4溶液中,陽(yáng)離子的數(shù)目之和為0.2NA

C.25 ℃時(shí),pH131.0 L Ba(OH)2溶液中含有的OH-數(shù)目為0.1NA

D.1 L 0.1 mol·L-1Na2CO3溶液中所含氧原子數(shù)目為0.3NA

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】下列離子方程式正確的是( )

A. 氫氧化鋇溶液與稀H2SO4反應(yīng):Ba2+SO42- BaSO4

B. 碳酸鈣與鹽酸反應(yīng):CO32-2H+H2OCO2

C. SiO2和氫氧化鈉溶液的反應(yīng):SiO22OH-SiO32-H2O

D. FeCl3溶液腐蝕銅箔制造印刷電路板:Fe3+CuFe2+Cu2+

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】ClO2 是一種高效安全的殺菌消毒劑。用氯化鈉電解法生成ClO2的工藝原理示意圖如下圖, 發(fā)生器內(nèi)電解生成ClO2。下列說(shuō)法正確的是

A. a氣體是氯氣,b氣體是氫氣

B. 氯化鈉電解槽內(nèi)每生成2 mol a氣體,轉(zhuǎn)移2mol e-

C. ClO2發(fā)生器中陰極的電極反應(yīng)式為:ClO3- + 2H+ + e-ClO2↑ + H2O

D. 為使ab氣體恰好完全反應(yīng),理論上每生產(chǎn)1molClO2需要補(bǔ)充44.8Lb氣體(標(biāo)況下)

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

【題目】某酸的酸式鹽NaHY在水溶液中,HY-的電離程度小于HY-的水解程度。有關(guān)的敘述中,正確的是

A. H2Y電離方程式為:H2Y+H2OHY+H3O+

B. 常溫下,該酸式鹽的水溶液中溶液中,各離子濃度大小關(guān)系為:cNa+>cY2->cHY->cOH->cH+

C. 常溫下,酸式鹽NaHY 的水溶液呈酸性

D. HY的水解方程式為:HY+ H2OH3O++Y2

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