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(5分)右圖是實驗室常用的制取氣體的裝置

(1)采用B裝置制取氧氣時化學方程式:                              
(2)C裝置用途很多,可用來洗氣。如要除去O2中少量的CO2可用到此裝置,此時瓶中盛          (填化學式)溶液,導管由            出(填d或e,下同);用排空氣法收集氫氣(瓶中為空氣),導管由          出。
⑴2H2O2=2H2O+O2↑(條件:MnO2)
⑵NaOH ,  d  e,  e  d

試題分析:B裝置是典型的固液不加熱制氣體,在制備氧氣的反應中,只有過氧化氫的催化分解,因此方程式為2H2O2=2H2O+O2↑(條件:MnO2)。(2)CO2是酸性氧化物,要想吸收CO2應該用NaOH。C裝置長進短出可以洗氣,所以是d進e出。排空氣法收集氫氣應該是向下排空氣法,C裝置短進長出為向下排空氣法,所以是e進d出。
點評:本題是一道非常熱點也是非;A的實驗基本儀器使用題。A裝置是典型的固固加熱制備氣體的裝置,B裝置是典型的固液不加熱制備氣體的裝置,C裝置則用途廣泛,如果裝入液體,則長進短出是洗氣,短進長出是排水法集氣,如果不裝入液體,則長進短出是向上排空氣法集氣,短進長出是向下排空氣法集氣。
練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源:不詳 題型:填空題

(14分)用如下圖所示裝置可以完成一系列實驗(圖中夾持裝置已略去)

請回答下列問題:
Ⅰ.若氣體a是Cl2,裝置A、B、C中的試劑依次為: FeCl2溶液、淀粉KI溶液、石蕊溶液。
裝置
A
B
C
D
試劑
FeCl2溶液
淀粉KI溶液
石蕊溶液
 
                  
現(xiàn)象
溶液由淺綠色變?yōu)樽攸S色
 
             
 
             
 
離子方程式
 
             
 
             
 
 
             
II.若氣體a是SO2,裝置A、B、C中的試劑依次為:品紅溶液、酸性高錳酸鉀溶液、氫硫酸(硫化氫的水溶液)。
裝置
A
B
C
試劑
品紅溶液
酸性高錳酸鉀溶液
硫化氫的水溶液
現(xiàn)象
                 
紫色退去
                  
體現(xiàn)SO2的性質
                
                 
氧化性
(1)寫出C中發(fā)生反應的化學方程式                             。
(2)D裝置中用氫氧化鈉溶液來吸收SO2,為了防止倒吸,應該選用下列裝置中的     (填序號)。

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:單選題

下列氣體中,不能用濃硫酸干燥的是
A.NO2B.Cl2C.SO2D.H2S

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:單選題

下列說法正確的是(  )
①氯氣有漂白性 、趯嶒炇抑迫÷葰鈺r,為了防止環(huán)境污染,多余的氯氣可以用氫氧化鈣溶液吸收、坌轮坡人难趸詮娪诰弥寐人、艹Cl氣體中的Cl2,可將氣體通入飽和食鹽水⑤氯氣的水溶液呈酸性
A.①②③B.②③C.③④ D.③⑤

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:單選題

下列各組氣體通常狀態(tài)下能穩(wěn)定共存,并均能用濃硫酸干燥的是(   )
A.NH3,O2,HClB.NO,NO2,O2C.N2,H2,HClD.H2,N2,NH3

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:單選題

如下圖所示的各種尾氣吸收裝置中,能防止倒吸的有(   )
A.①②④⑤B.②③④⑤C.②④⑤D.③④

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:實驗題

(10分)實臉室采用MgCl2、AlCl3的混合溶液與過量氨水反應制備MgAl2O4二主要流程如下:

(1)為使Mg2、Al3同時生成沉淀,應先向沉淀反應器中加入       (填“A”或“B"),再滴加另一反應物。
(2)如右圖所示,過濾操作中的一處錯誤是                

(3)洗滌沉淀的方法是                                   ;判斷流程中沉淀是否洗凈所用的試劑是         。高溫焙燒時,用于盛放固體的儀器名稱是             。
(4)無水AlCl3(183℃升華)遇潮濕空氣即產生大量白霧,實驗室可用下列裝置制備。

寫出A中反應的離子方程式                        。裝置B中盛放飽和NaCl溶液,該裝置的主要作用是         。F中試劑的作用是          。用一件儀器裝填適當試劑后也可起到F和G的作用,所裝填的試劑為                 _。

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:填空題

(10分)晶體硅是一種重要的非金屬材料。請寫出晶體硅的二種用途:______、______
制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3(常溫下為液態(tài),易揮發(fā))
③SiHCl3與過量H2在1000~1100℃反應制得純硅。
已知:Ⅰ.SiHCl3水解會生成兩種氣態(tài)產物,請寫出其水解的化學方程式:___________。
Ⅱ.SiHCl3在空氣中自燃。請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為                 。
(2)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)

①裝置B中的試劑是    ,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是______________,
②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是               _  ,
裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為                  ___  ,
③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度
以及                           _____________ ,
④設計鑒定產品硅中是否含少量Fe單質的方法:_________________________________。

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科目:高中化學 來源:不詳 題型:實驗題

(13分)四氯化硅是粗硅精煉中的中間產物,熔點-70℃,沸點57.6℃,在潮濕空氣中水解生成硅酸和氯化氫。某興趣小組在實驗室里通過下圖所示裝置制取少量四氯化硅:

如何檢驗上圖氣體發(fā)生裝置的氣密性: ______________________
A裝置中發(fā)生反應的離子方程式為: ________________________ 
A裝置中玻璃實驗儀器名稱為(寫出兩種即可):_______和_______ 
B中的液體為:______________F中堿石灰的作用為:① __________②________
先加熱圖中哪個裝置:__________________原因:________________________
若實驗中用12mol·L-1濃鹽酸10mL與足量的MnO2反應,生成Cl2的物質的量
總是小于0.03mol,試分析可能存在的原因是:① __________② _________

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