Question

【題目】(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產過程示意如下：

①整個制備過程必須達到無水無氧。在H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_____________

②在生產過程中物質A可循環(huán)使用，A的化學式是____________。

(2) 鈦和鈦合金被認為是21世紀的重要金屬材料，冶煉金屬鈦時，將鐵鐵礦石轉化為下TiCl4，TiCl4再與Na在一定條件下反應生成Ti和NaCl。請寫出后一步反應的化學方程式：__________________(不要求標反應條件)，其反應類型是_________________。

Answer 1

【答案】 發(fā)生爆炸(生成的硅也會被氧化) HCl TiCl4＋4Na===Ti＋4NaCl 置換反應

【解析】①點燃或加熱可燃性氣體與空氣的混合物可能發(fā)生爆炸。在H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸，同時硅在高溫下易與氧氣的反應而被氧化；②在上述生產流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高純硅是兩個相反的過程，在生產過程中物質A可循環(huán)使用，A的化學式是HCl；(2) TiCl4再與Na在一定條件下反應生成Ti和NaCl。反應的化學方程式：TiCl4＋4Na===Ti＋4NaCl，其反應類型是由一種單質和一種化合物生成另一種單質和另一種化合物的置換反應。